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2,4,6,8-TETRAMETHYLCYCLOTETRASILOXANE

2,4,6,8-TETRAMETHYLCYCLOTETRASILOXANE Struktur
2370-88-9
CAS-Nr.
2370-88-9
Englisch Name:
2,4,6,8-TETRAMETHYLCYCLOTETRASILOXANE
Synonyma:
H-4;H4R;D4H;HH4R;TMCTS;DK690;SP9144;GPRv53;Tetramethylcyclotetrasiloxane;cyclic tetramethyltetrasiloxane
CBNumber:
CB1453337
Summenformel:
C4H16O4Si4
Molgewicht:
240.51
MOL-Datei:
2370-88-9.mol
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2,4,6,8-TETRAMETHYLCYCLOTETRASILOXANE Eigenschaften

Schmelzpunkt:
−69 °C(lit.)
Siedepunkt:
134 °C(lit.)
Dichte
0.986 g/mL at 25 °C(lit.)
Dampfdruck
0.05-479Pa at 20℃
Brechungsindex
n20/D 1.387(lit.)
Flammpunkt:
76 °F
storage temp. 
2-8°C
Aggregatzustand
liquid
Wichte
0.991
Farbe
Colorless to Almost colorless
Wasserlöslichkeit
Miscible with most organic solvents. Immiscible with water.
Hydrolytic Sensitivity
3: reacts with aqueous base
Sensitive 
Moisture Sensitive
BRN 
1787074
InChIKey
BQYPERTZJDZBIR-UHFFFAOYSA-N
LogP
-2.4-5.54 at 25℃
CAS Datenbank
2370-88-9(CAS DataBase Reference)
EPA chemische Informationen
Cyclotetrasiloxane, 2,4,6,8-tetramethyl- (2370-88-9)
Sicherheit
  • Risiko- und Sicherheitserklärung
  • Gefahreninformationscode (GHS)
Kennzeichnung gefährlicher Xi
R-Sätze: 10-36
S-Sätze: 16-26-36
RIDADR  UN 1993 3/PG 3
WGK Germany  3
F  10-21
TSCA  Yes
HazardClass  3
PackingGroup  III
HS Code  29319090
Bildanzeige (GHS) GHS hazard pictogramsGHS hazard pictograms
Alarmwort Warnung
Gefahrenhinweise
Code Gefahrenhinweise Gefahrenklasse Abteilung Alarmwort Symbol P-Code
H226 Flüssigkeit und Dampf entzündbar. Entzündbare Flüssigkeiten Kategorie 3 Warnung
H319 Verursacht schwere Augenreizung. Schwere Augenreizung Kategorie 2 Warnung P264, P280, P305+P351+P338,P337+P313P
Sicherheit
P210 Von Hitze, heißen Oberflächen, Funken, offenen Flammen und anderen Zündquellenarten fernhalten. Nicht rauchen.
P233 Behälter dicht verschlossen halten.
P240 Behälter und zu befüllende Anlage erden.
P264 Nach Gebrauch gründlich waschen.
P264 Nach Gebrauch gründlich waschen.
P280 Schutzhandschuhe/Schutzkleidung/Augenschutz tragen.
P303+P361+P353 BEI BERÜHRUNG MIT DER HAUT (oder dem Haar): Alle kontaminierten Kleidungsstücke sofort ausziehen. Haut mit Wasser abwaschen oder duschen.
P305+P351+P338 BEI KONTAKT MIT DEN AUGEN: Einige Minuten lang behutsam mit Wasser spülen. Eventuell vorhandene Kontaktlinsen nach Möglichkeit entfernen. Weiter spülen.

2,4,6,8-TETRAMETHYLCYCLOTETRASILOXANE Chemische Eigenschaften,Einsatz,Produktion Methoden

R-Sätze Betriebsanweisung:

R10:Entzündlich.
R36:Reizt die Augen.

S-Sätze Betriebsanweisung:

S16:Von Zündquellen fernhalten - Nicht rauchen.
S26:Bei Berührung mit den Augen sofort gründlich mit Wasser abspülen und Arzt konsultieren.
S36:DE: Bei der Arbeit geeignete Schutzkleidung tragen.

Beschreibung

2, 4, 6, 8-TETRAMETHYLCYCLOTETRASILOXANE can be used as the precursor for the deposition of polysiloxane, cyclic siloxane, silicon dioxide, and gate dielectrics in thin-film transistors (TFT) (for example, for the preparation of ultralow dielectric constant pSiCOH film), and is a component of photochemically formed SiOX monolayers on TiO. It is a good impregnant of photoelectric material. It can be used for the manufacturing of modified siloxane with defined hydrogen content and chain quality.

Chemische Eigenschaften

Colorless or yellowish transparent liquid

Verwenden

2,4,6,8-Tetramethylcyclotetrasiloxane can occur addition reaction with unsaturated alkenes, so it’s utilized widely to synthesize variety functional reactive silicone fluids which is used to form silicone block copolymer, or used as crosslinker of vinyl addition silicone rubber. Tetramethyl-cyclotetrasiloxane is a good impregnant of photoelectric material. It is used to manufacture of modified siloxane with defined hydrogen content and chain quantity. It is also used in production of silicone polymers and acts as a precursor for the deposition of polysiloxane, cyclic siloxane, silicon dioxide, oxycarbide thin films with low dielectric constant for microelectronics and semiconductors.

Allgemeine Beschreibung

Atomic number of base material: 14 Silicon

Einzelnachweise

https://www.alfa.com/zh-cn/catalog/L16642/
http://www.sigmaaldrich.com/catalog/product/aldrich/512990?lang=en&region=US
Grill, A., and V. Patel. "Ultralow dielectric constant pSiCOH films prepared with tetramethylcyclotetrasiloxane as skeleton precursor." Journal of Applied Physics 104.2(2008):107.
Zhang, Jianming, D. S. Wavhal, and E. R. Fisher. "Mechanisms of SiO2 film deposition from tetramethylcyclotetrasiloxane, dimethyldimethoxysilane, and trimethylsilane plasmas." Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces & Films 22.1(2004):201-213.
Fujino, Katsuhiro, et al. "Low-Temperature Atmospheric-Pressure Chemical Vapor Deposition, Using 2, 4, 6, 8-Tetramethylcyclotetrasiloxane and Ozone." Japanese Journal of Applied Physics 33. 4A (1994):2019-2024.

2,4,6,8-TETRAMETHYLCYCLOTETRASILOXANE Upstream-Materialien And Downstream Produkte

Upstream-Materialien

2,4,6,8,10,12-HEXAMETHYLCYCLOHEXASILOXANE, 96 2,4,6,8,10-Pentamethylcyclopentasiloxan Diethylether Wasser

Downstream Produkte

2 4 6-TRIMETHYLCYCLOTRISILOXANE 99 1,1,1,3,5,7,7,7-Octamethyltetrasiloxan 1,1,1,3,5,5,5-Heptamethyltrisiloxan

2,4,6,8-TETRAMETHYLCYCLOTETRASILOXANE Anbieter Lieferant Produzent Hersteller Vertrieb Händler.

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